나이스!! 중국에 기술 팔아먹은 삼성맨 징역20년

서울중앙지법 형사25부(부장판사 지귀연)는 12일 산업기술의 유출방지 및 보호에 관한 법률 위반 등 혐의로 전직 삼성전자 기술팀 부장 김모(56)씨 등 5명의 결심공판을 진행했다.

검찰은 김씨에게 징역 20년을 구형했다. 함께 재판에 넘겨진 엔지니어들에게는 징역 2년~10년을 구형했다.

검찰은 “기술유출 범죄는 국가와 피해기업의 기술적 기반을 흔들 수 있는 중대한 범죄”라며 “이들은 조직적으로 자료를 유출하고 부정사용했으며, 그 과정에서 범행을 은폐하기 위해 각종 증거를 삭제하고 관련자들과 진술을 맞췄다”고 지적했다.

이어 “피고인들이 유출하고 부정사용한 자료들은 피해 회사가 다년간 연구하고 개발한 것이자 국가 핵심기술인데, 가볍게 처벌한다면 기업들로서는 오랜 시간과 비용을 들여 기술개발에 매진할 동기가 없어진다”며 “동종업체가 인재영입을 빙자해 우리나라 기업이 각고의 노력으로 쌓아온 것을 손쉽게 탈취하는 것을 방치해선 안 된다”고 강조했다.

또 “반도체 산업은 대한민국 경제의 근간이 되는 중요한 사업으로 10년 연속 수출 1위를 차지하고 국가경제에 큰 영향을 미친다”며 “피고인들과 같은 제2, 제3의 범죄가 발생하지 않도록 엄정한 법 집행해 경종을 울려주시길 바란다”고 덧붙엿다.

검찰에 따르면 범행을 주도한 김씨는 삼성전자 기술팀 부장 출신으로, 중국에 반도체 D램 제조의 핵심 장비인 ALD(원자층 증착) 장비 개발에 성공한 회사가 없다는 점을 노려 중국에 새로운 반도체 장비업체 A 법인을 설립했다.

김씨는 2022년 2월부터 9월까지 당시 재직 중이던 삼성전자의 반도체 증착장비 설계기술자료를 몰래 별도 서버에 전송하는 한편, 급여와 A법인 주식 배분을 보장하겠다며 반도체 장비 제조 업체 직원들 3명을 A법인으로 이직시켰다.

김씨 외 직장을 그만둔 이들도 이직 전 취급 중인 핵심 기술자료를 외부로 빼돌렸는데, 이 자료들은 이후 ALD 제작에 사용한 것으로 조사됐다. 검찰이 파악한 유출 기술자료의 개발비용은 총합 736억원이다.

검찰에 따르면 이들은 2022년 11월께 장비 개발에 착수해 지난해 2월께 도면작성을 시작, 4개월 후인 6월께엔 실제 장비 제작에 들어갔다.

이에 대해 검찰은 “순수하게 자체 기술을 개발하여 장비를 제작할 경우 3년 이상 소요 예상된다”며 “아무런 기술적 기반이 없는 신생 회사가 불과 4개월 만에 설계도면을 작성하여 장비 제작에 들어간것은피해회사들의 기술을 부정 사용하지 않고는 불가능한 일”이라고 설명했다.

이들은 법적 이슈를 피하기 위해 A법인이 아닌 중국의 위장회사와 고용계약을 체결하고, 중국 현지 생활시 실제 이름이 아닌 영문 가명을 사용하는 등 은밀하게 활동한 것으로 조사됐다.

아울러 피해회사의 도면, 레시피, 연구개발 자료 등 각종 기술자료를 한국에 구축한 별도 서버에 저장했는데, A가 유출해 저장한 삼성전자의 기술자료가 1만건이 넘는 것으로 검찰은 파악했다.

검찰은 “피고인들은 한국에서 받던 급여의 2배 이상과 새로 설립한 A법인의 주식을 배분받기로 하는 등 막대한 금전적 이익을 위해 본건 범행을 저지른 것”이라고 설명했다.

이들은 국내 협력업체를 섭외해 증착장비를 각 모듈별로 제작해 중국으로 보내 조립을 완성할 계획이었다고 한다.

이 같은 사실을 확인한 검찰은 국내 업체에서 제작 중이던 모듈을 압수해 유출 정보를 이용한 제작 장비가 중국에서 유통되는 것을 차단했다고 밝혔다.

검찰은 A법인의 중국인 대표자도 입건한 것으로 전해졌다. 다만 이 대표의 경우 소환조사에 불응하고 중국에 체류 중이라며, 국내 입국시 즉시 수사 재개하겠다는 방침이다.

김씨는 앞서 삼성전자의 다른 핵심기술인 18나노 D램 공정 기술 자료를 유출한 혐의로 지난 1월 구속 기소됐다．

출처: 국민의힘 갤러리 [원본 보기]